Aufdampf und Sputtertechnik ( PVD-Labor )
Im PVD-Labor ( physical vapour deposition ) werden Dünnschichtsysteme mit folgenden physikalischen Depositionsverfahren abgeschieden :
www.helmholtz-berlin.deEvaporation and sputter technique ( PVD-Laboratory )
In the PVD ( physical vapour deposition ) laboratory thin film systems are deposited with the following techniques :
www.helmholtz-berlin.deBeschichtung Beschichtung CVD-Verfahren
Über 80 % unserer Werkzeuge und Wendeschneidplatten werden im PVD- ( Physical Vapour Deposition ) oder CVD-Verfahren ( Chemical Vapour Deposition ) beschichtet , um eine noch höhere Verschleißfestigkeit zu erreichen .
Über 40 Jahre Know-how machen uns zu einem Pionier in der Beschichtungstechnologie:
www.ceratizit.comCoating CVD method
Over 80 % of our tools and inserts are coated using PVD ( Physical Vapour Deposition ) or CVD ( Chemical Vapour Deposition ) methods in order to achieve an even higher wear resistance .
Over 40 years of know-how make us a pioneer in coating technology:
www.ceratizit.comBild vergrößern.
Abb. 2 Skizze einer physikalischen Gasabscheidung ( PVD - physical vapour deposition ) für die gleichzeitige Verdampfung von verschiedenen Elementen .
In der Regel werden nicht-kristalline Substrate verwendet, die ein polykristallines Schichtwachstum hervorrufen.
www.physik.uni-halle.deBild vergrößern.
Fig . 2 Sketch of a physical vapour deposition system for the simultaneous evaporation of different elements .
Typically non-crystalline substrates are used which lead to polycrystalline film growth.
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In the PVD ( physical vapour deposition ) laboratory thin film systems are deposited with the following techniques :
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Im PVD-Labor ( physical vapour deposition ) werden Dünnschichtsysteme mit folgenden physikalischen Depositionsverfahren abgeschieden :
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Über 80 % unserer Werkzeuge und Wendeschneidplatten werden im PVD- ( Physical Vapour Deposition ) oder CVD-Verfahren ( Chemical Vapour Deposition ) beschichtet , um eine noch höhere Verschleißfestigkeit zu erreichen .
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In der Regel werden nicht-kristalline Substrate verwendet, die ein polykristallines Schichtwachstum hervorrufen.
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